题名
热压印刻蚀技术
DOI
作者
​章国明 邵会波
作者单位
首都师范大学化学系，北京，1000372
摘要
纳米压印技术是一种高分辨率、廉价、高效的纳米结构制备技术.它既继承了传统光刻技术所具有的并行性,又同时拥有传统光刻技术不易达到的纳米结构制备能力,这为今后纳米结构的广泛应用提供了良好的条件.文章介绍了纳米热压印技术中核心工艺流程,包括:模板的制备、抗粘层的制备、压印过程中温度与压力的影响、反应离子刻蚀,并且给出了利用纳米热压印技术制备的光栅结构,最后展望了纳米压印技术的前景。
关键词
纳米压印技术；热压印技术；纳米结构制备
刊名
纳米技术研究
ISSN
3078-9435
年、卷(期)
20212
所属期刊栏目
工程技术
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