题名
分步式压印光刻研究
DOI
作者
邱志惠 丁玉成 刘红忠 卢秉恒
作者单位
西安交通大学先进制造研究所，陕西西安，7100492
摘要
针对微纳制造中光刻环节的光衍射限制,讨论了可能成为下一代光刻技术路线的压印光刻.通过对比热压印、微接触转印及常温压印的技术特点,设计了一套低成本、结构简单的紫外光固化常温压印光刻机构.其大行程纳米级定位、纳米级下压系统消除了压印过程中的机构热变形误差、驱动间隙、蠕动误差等,具有分步式纳米级驱动多场压印及纳米级下压加载能力,可实现多次重复高保真图形复制。
关键词
微纳；制造压印；光刻
刊名
纳米技术研究
ISSN
3078-9435
年、卷(期)
20216
所属期刊栏目
工程技术
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