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分步式压印光刻研究 下载：80 浏览：485

​邱志惠 丁玉成 刘红忠 卢秉恒 《纳米技术研究》 2021年6期

摘要:
针对微纳制造中光刻环节的光衍射限制,讨论了可能成为下一代光刻技术路线的压印光刻.通过对比热压印、微接触转印及常温压印的技术特点,设计了一套低成本、结构简单的紫外光固化常温压印光刻机构.其大行程纳米级定位、纳米级下压系统消除了压印过程中的机构热变形误差、驱动间隙、蠕动误差等,具有分步式纳米级驱动多场压印及纳米级下压加载能力,可实现多次重复高保真图形复制。
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