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一种低功耗POK单元库的设计方法 下载：72 浏览：83

李向阳 胡晓明 《电路系统研究》 2018年11期

摘要:
随着集成电路的发展,功耗已成为设计者面临的严峻挑战之一。对此,基于hl55ulp CMOS工艺,自主设计了包含power gating switch cell、isolation cell、retention cell、level shifter、always on cell等功耗优化单元的电路、版图、各类库文件的POK单元库,以达到辅助设计者有效管理芯片功耗的目的。

钝化层刻蚀对厚铝铝须缺陷影响的研究 下载：97 浏览：491

吴智勇 《电路系统研究》 2018年3期

摘要:
国产中微机台在钝化层刻蚀工艺应用中发现容易导致后续的铝薄膜溅射工艺出现铝须缺陷(Whisker),进而造成产品出现开路/短路良率异常。影响AL whisker的因素很多,主要有两方面:一是由于AL film和上下地间TiN film之间热应力的不匹配容易导致AL whisker,其主要由铝溅射自身工艺能力决定;二是前层表面状况的影响。讨论中微机台刻蚀后的表面残留导致Al溅射后出现铝须缺陷的现象,并对其成因进行系统性分析,同时对其解决方案进行详细的介绍。
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