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一种低使用成本的高精度曝光和测量技术 下载：76 浏览：387

周畅1 徐兵1，2 朱岳彬1 《光电子进展》 2019年6期

摘要:
提出了一种使用小尺寸MASK(光罩)的高精度曝光技术,能够实现1.5μm分辨率,几乎可以忽略的MASK成本。同时以曝光控制技术为基础,提出了一种快速进行TP/OL/CD精确测量的技术,为降低国产设备的测量使用成本提供了研究方向,同时提高了国产屏的性价比,可大幅降低单点测量时间和测量成本。
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