高分辨紫外电子轰击互补金属氧化物半导体器件的实验研究
刘虎林 王兴 田进寿 赛小锋 韦永林 温文龙 王俊锋 徐向晏 王超 卢裕 何凯 陈萍 辛丽伟
中国科学院西安光学精密机械研究所中国科学院超快诊断技术重点实验室
摘要: 基于真空紫外光电阴极和背照式互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器研制了紫外光响应的电子轰击CMOS(EBCMOS)器件,实现了EBCMOS器件在40 mlx光照度环境下的高分辨探测,电子图像灰度随电子能量的变化呈现出极好的线性关系.对器件成像分辨率测试的结果表明,在电场强度为5000 V/mm时,器件的空间分辨率可以达到25 lp/mm,与国际相关报道水平相当.研制的EBCMOS器件可直接在紫外弱光探测领域应用,如天文观察、高能物理、遥感测绘等,同时也可为下一步研制可见光和近红外敏感的EBCMOS器件提供参考.
关键词:
互补金属氧化物半导体;电子轰击增益;微光成像;紫外探测;
互补金属氧化物半导体;电子轰击增益;微光成像;紫外探测