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二硫化钼薄膜的刻蚀方法及其应用
作者:
奚清扬1
刘劲松1,2
李子全1,3
朱孔军2
台国安2
宋若谷1
单位：
1.南京航空航天大学材料科学与技术学院；2.南京航空航天大学机械结构力学及控制国家重点实验室；3.南京邮电大学材料科学与工程学院
下载量：
94
浏览量：
539
全文下载：
PDF
DOI：
出刊日期：
2025-04-17
低维氧化锌晶面调控及催化抗菌活性研究进展
作者:
李丹
张忞灏
廖佩姿
谢远甄
贺伟
徐晓玲
周祚万
单位：
西南交通大学材料科学与工程学院材料先进技术教育部重点实验室
下载量：
86
浏览量：
496
全文下载：
PDF
DOI：
出刊日期：
2025-04-16
梳齿型深硅刻蚀工艺研究
作者:
张旭1,2
张迪雅1,2
单位：
1.中北大学仪器与电子学院；2.山西省自动化检测装备与系统工程技术研究中心
下载量：
22
浏览量：
443
全文下载：
PDF
DOI：
出刊日期：
2025-04-15
进入原子层蚀刻之后的芯片制造工艺
作者:
Mark
LaPedus
单位：
中国台湾电子工程专辑EE
Times
下载量：
80
浏览量：
487
全文下载：
PDF
DOI：
出刊日期：
2025-04-15
钝化层刻蚀对厚铝铝须缺陷影响的研究
作者:
吴智勇
单位：
上海华力微电子有限公司
下载量：
97
浏览量：
513
全文下载：
PDF
DOI：
出刊日期：
2025-04-14
保护层对背沟道刻蚀型金属氧化物IGZO TFT性能的研究
作者:
陶家顺1，2
刘翔1，2
单位：
1.南京中电熊猫平板显示科技有限公司；2.成都中电熊猫显示科技有限公司
下载量：
30
浏览量：
320
全文下载：
PDF
DOI：
出刊日期：
2025-04-11
电化学刻蚀参数对高阻厚壁宏孔硅阵列表面形貌的影响
作者:
安欢1
伍建春1
张仲1
王欢1
孙华2
展长勇1
邹宇1
单位：
1.四川大学原子核科学技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室；2.苏州大学物理学院
下载量：
50
浏览量：
450
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PDF
DOI：
出刊日期：
2025-04-11
热压印刻蚀技术
作者:
章国明
邵会波
单位：
首都师范大学化学系，北京，1000372
下载量：
84
浏览量：
519
全文下载：
PDF
DOI：
出刊日期：
2025-03-19
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