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TiN薄膜制备方法、性能及其在OLED方面应用的研究
DOI
:
,
PDF
下载:
72
浏览: 401
作者
:
张阳1,2
;
吕军锋3
;
杨建兵1,2
;
吴远武1,2
;
刘腾飞1,2
;
作者单位
:
1.中国电子科技集团公司第五十五研究所;2.国家平板显示工程技术研究中心;3.西安北方光电股份有限公司
;
关键词
:
氮化钛
;
有机电致发光
;
电极
;
摘要:
基于磁控溅射法制备用于OLED器件阳极的TiNx薄膜电极。研究了N2流量和溅射功率对TiNx薄膜电阻率和反射率的影响。采用四探针、光学光度计、SEM等测试手段对TiNx薄膜进行了表征。结果表明,TiNx薄膜电阻率为35.6μΩ·cm时性能最佳,制作的OLED器件在5V电压下亮度可到22 757cd/m2。
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