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席夫碱自组装膜对铜的缓蚀性能研究
DOI
:
,
PDF
下载:
46
浏览: 513
作者
:
苏红玉1
;
刘琳1
;
张强1,2
;
钱建华1
;
作者单位
:
1.辽宁省功能化合物的合成与应用重点实验室渤海大学,2.分子反应动力学国家重点实验室中国科学研究院大连物理化学研究所
;
关键词
:
席夫碱
;
自组装膜
;
缓蚀性能
;
分子动力学模拟
;
摘要:
采用分子自组装技术在铜表面制备2-氨基-5-巯基-1,3,4-噻二唑缩4-甲酰苯甲酸(A)缓蚀膜。通过电化学测试技术研究了该席夫碱膜在3wt.%Na Cl溶液中对金属铜的缓蚀性能。结果表明,自组装分子膜能有效抑制铜片的腐蚀,当浓度为15 mmol·L-1,组装时间为6 h时缓蚀效果最佳,高达97.11%。量化计算和分子动力学模拟得到了缓蚀剂分子的活性位点和在Cu(111)面的吸附形态。缓蚀剂的缓蚀效率的理论评价与电化学测试结果相一致。
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