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一种低使用成本的高精度曝光和测量技术

周畅1 徐兵1，2 朱岳彬1

1.上海微电子装备(集团)股份有限公司；2.上海大学机电工程与自动化学院

摘要: 提出了一种使用小尺寸MASK(光罩)的高精度曝光技术,能够实现1.5μm分辨率,几乎可以忽略的MASK成本。同时以曝光控制技术为基础,提出了一种快速进行TP/OL/CD精确测量的技术,为降低国产设备的测量使用成本提供了研究方向,同时提高了国产屏的性价比,可大幅降低单点测量时间和测量成本。
关键词: 曝光；长寸；测量；光罩；精度；成本；
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