摘要: 为实现在表面等离子体光刻机中对掩模与基片间的间隙测量,提出一种基于白光干涉测量技术的掩模-基片间隙测量方法,并设计了以ZYNQ芯片为核心的信号处理系统。以ZYNQ芯片的片上ARM用作参数设定、驱动控制以及前端显示,以可编程逻辑资源用于实现光谱数据的小波处理和互相关解调。系统以分布并行结构运行,大大提高了测量速度,并实现了对掩模-基片间隙的实时测量。最后为了确定测量精度,搭建了激光干涉仪精度测试平台。测试实验表明,间隙测量的重复测量精度为4.4 nm,位移测量精度为6.7 nm,满足间隙测量性能稳定和精度高等要求。