摘要: 研究并制备了不同晶面偏角的Si(111)单晶，经过研磨和抛光使表面粗糙度低至3.4?达到超光滑水平，消除了表面和亚表面损伤层以及其所产生的应力变化.利用高精度X射线衍射仪分别测定了在不同晶面偏角条件下衍射曲线的半高全宽和积分宽度.应用Voigt函数法分析计算了微观应变，通过理论计算和实验对比可知，Si(111)单晶在晶面偏角达到0.749o时，偏角本身所带来的衍射峰半高全宽变化使计算出的应变值误差大于5%.研究结果为其他晶体类似研究提供了重要参考.