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硅基碳纳米管厚膜的制备及其场发射研究
DOI
:
,
PDF
下载:
94
浏览: 571
作者
:
王琪琨
;
;
朱长纯
;
;
史永胜
;
作者单位
:
西安交通大学电子与信信息工程学院,陕西西安,7100492
;
关键词
:
碳纳米管厚膜
;
涂敷
;
粘结剂
;
场发射
;
摘要:
该文研究了用涂敷法制备碳纳米管(CNT)厚膜的制备和场发射特性,裂解法获得的碳纳米管与玻璃粉等混合、研磨,直接涂敷在Si基底上,二极管结构测量的结果表明,碳纳米管厚膜有较低的开启电场(1.0~1.5 v/μm),场强为5 V/μm时,电流密度达到了50 μA/cm2.该工艺的烧结过程应控制好,加热时间稍长,会使CNT厚膜的场发射性能很快下降,时间过长会使CNT处在厚膜表面之下,无法有效发射电子.浆料中的玻璃粉比例增大时,碳纳米管阴极的场发射性能会有所降低。
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