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深亚微米BiCMOS[B]芯片与制程剖面结构
DOI
:
,
PDF
下载:
95
浏览: 503
作者
:
潘桂忠1,2
;
作者单位
:
1.上海贝岭股份有限公司;2.中国航天电子技术研究院第七七一研究所
;
关键词
:
集成电路制造
;
工艺
;
深亚微米BiCMOS[B]
;
剖面结构
;
摘要:
深亚微米BiCMOS[B]技术能够实现双极型与CMOS元器件兼容的工艺。为了便于集成,以双极型制程为基础,引入Twin-Well CMOS元器件工艺,在同一硅衬底上实现兼容的BiCMOS[B]工艺。采用深亚微米BiCMOS[B]集成电路芯片结构设计的工艺与制造技术,依该技术得到了芯片制程结构。
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