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基于CVD法制备的单层二硫化钼的光电晶体管特性研究
DOI
:
,
PDF
下载:
15
浏览: 402
作者
:
杨启志1
;
方佳佳1
;
王权1,2
;
作者单位
:
1.江苏大学机械工程学院;2.中国科学院传感技术联合国家重点实验室
;
关键词
:
MoS2
;
CVD
;
单层
;
光电晶体管
;
光敏
;
光电流
;
摘要:
二硫化钼(MoS2)优异的理化性能在光电晶体管领域的应用具有极大潜力。文中研究了化学气相沉积法(CVD)法生长的MoS2薄膜制备的光电晶体管的性能。随着光照强度的增加,光电流也随之增加,但幅度逐渐下降,由于其价带上的电子极易吸收能量跃迁到导带从而产生光电流,但最终会达到响应饱和状态。对基于二硫化钼光电晶体管性能的研究有助于二硫化钼材料在光电传感器上的应用。
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