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电化学刻蚀参数对高阻厚壁宏孔硅阵列表面形貌的影响 下载:50 浏览:426
摘要:
采用光电化学刻蚀方法,在电阻率为4~5 kΩ·cm的n-型[100]单晶硅片上制备了厚壁有序宏孔硅阵列。通过对比有限元法模拟诱导坑周围的电场分布,研究了刻蚀参数(电解液、光照、电压)对阵列表面形貌的影响。在刻蚀成孔的过程中,诱导坑对孔的限制受电场分布和实验条件的共同影响,出现刻蚀偏离的现象。模拟结果显示,诱导坑上的电场强度沿着单晶硅的[100]和[110]晶向的分布。这种分布的结果是,随着光照强度的提高和刻蚀溶液表面自由能的降低刻蚀由原光刻图形的(110)面向(100)面偏离。提高刻蚀电压可抑制刻蚀偏离,有利于诱导坑快速刻蚀成孔,从而形成规整的厚壁宏孔硅阵列。
基于联合仿真方法研究静电纺丝轨迹 下载:67 浏览:478
摘要:
提出一种联合仿真方法,先使用COMSOL Multiphysics软件仿真目标装置的电场分布,计算出各种条件下的电场分布;然后在基于Matlab的轨迹仿真中使用上述电场仿真结果代替描述电场的方程。这种Matlab与COMSOL Multiphysics联合仿真不仅提高了轨迹仿真的准确度,还可以应用在各种复杂的电场条件下。本文应用联合仿真方法对基本的静电纺丝、添加了环形和平行辅助极板的静电纺丝轨迹进行了联合仿真和实验验证。在此基础上,采用联合仿真方法对双喷头双极性静电纺丝轨迹进行了仿真和实验验证。结果表明,联合仿真结果与实验结果吻合得很好。
COMSOL Multiphysics在电磁场与微波技术教学中的应用 下载:193 浏览:968
摘要:
为解决“电磁场与微波技术”课程理论性强、概念抽象的特点给课程教学带来的问题, 文章介绍了在“电磁场与微波技术”课程的教学中引入电磁仿真软件COMSOL Multiphysics的意义,给出了电磁波在非互易系统中传输的应用实例,展示了基于COMSOL Multiphysics的图示化教学模式。实践表明,利用COMSOL Multiphysics对电磁问题进行模拟并实现结果的可视化,能够帮助学生加深对相关理论、概念及实际应用的理解,激发学生学习电磁场理论的热情,培养其解决实际工程问题的能力。
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